Siliziuminjektor für die Halbleiterfertigung

Ein neues Verfahren bringt Injektoren aus hochreinem Silizium für die CVD-Beschichtung hervor; das ist dasselbe Material, aus dem die in der Halbleiterfertigung genutzten und zu beschichtenden Scheiben bestehen.

In Vakuumöfen werden Halbleiterchips mithilfe sogenannter Injektoren beschichtet. Mit diesen Injektoren kann das Gas dosiert in einen Reaktor eingebracht werden. Dabei werden mit Hilfe der chemischen Dampfphasenabscheidung (CVD) bei 600-800°C hauchdünne Schichten auf dem Silizium-Wafer aufgebracht. Die Injektoren bestehen in der Regel aus Glas, doch die Kundinnen und Kunden der Sico GmbH suchen schon lange nach ökonomischeren Lösungen. Daher stellt das Unternehmen die Injektoren nun mit einem patentierten Verfahren aus dem gleichen Material her wie die zu beschichtenden Scheiben: Silizium. Die neuen Injektoren müssen so wesentlich seltener getauscht oder gereinigt werden, und die Chipausbeute ist höher. Sico hat drei Jahre lang an der Entwicklung gearbeitet. Seit dem Jahr 2018 schlägt sich das neue Verfahren in einer Auftragssteigerung und 20 zusätzlichen Mitarbeiterinnen und Mitarbeitern nieder.